等離子清洗機中的等離子體是區別于固體、液體和氣體的另一種物質聚集態，人們稱之為物質存在的第四種狀態。它由電離的導電氣體組成，其中包括六種典型的粒子，即電子、正離子、負離子、激發態的原子或分子、基態的原子或分子以及光子。等離子清洗機噴出來的物質就是等離子體，常規的有大氣等離子和真空等離子。等離子體中的基本粒子見下表：

   像大氣等離子清洗機的噴嘴中是直噴出的離子，這種情況由噴嘴的結構間接的改變了離子的運動方向（直接面對被處理材料）。從而使大氣等離子在流水線上只能處理一個表面，這也是與真空等離子清洗最大的區別之一。如今應用最多的就是手機行業：手機玻璃表面活化處理，底板點膠前處理，封裝前端處理，手機殼表面噴漆前活化處理等等。一般的手機工廠每日幾K到幾十K的產能，就必須要有快速高效的活化處理工藝，大氣等離子清洗機就是為此而生的。無論配合在三軸平臺，傳輸機還是裝在整條流水線上，大氣等離子清洗機都能快速使被處理材料其中一個表面達到很好的活化效果。

   真空等離子屬于帶有真空腔體等離子清洗機，真空等離子清洗機腔體內部的離子是不定向的，只要材料在腔體裸露出的部分，不管是哪個面哪個角落都可以洗得到，因此可以對各種形狀、材料 進行全方位的清洗處理，也方便調整工藝參數，是目前市場上面的主流。